真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對(duì)蒸發(fā)的膜體分子會(huì)產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮，果如真空度不高結(jié)晶體就會(huì)失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結(jié)合差工效低光澤差。現(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。

       中頻設(shè)備必須加冷卻水，原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動(dòng)時(shí)有一個(gè)集膚效應(yīng)，電荷會(huì)聚集在電導(dǎo)有表面積，這樣使電導(dǎo)發(fā)熱所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。 （主要是圓柱靶）為什么也要用水冷卻？磁控濺射靶在發(fā)射時(shí)會(huì)產(chǎn)生高溫會(huì)使射槍變形，所以它有一個(gè)水套來冷卻射槍。同時(shí)還有一個(gè)重要原因磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中最突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好。 從更深層次研究電子在非均勻電磁場(chǎng)中的運(yùn)動(dòng)規(guī)律，探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場(chǎng)的橫向不均勻性及對(duì)稱性是磁約束的本質(zhì)原因。磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中最突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定。 

        冷水機(jī)是一種水冷卻設(shè)備，能提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水設(shè)備。其工作原理是先向機(jī)內(nèi)水箱注入一定量的水，通過制冷系統(tǒng)將水冷卻，再由水泵將低溫冷卻水送入需冷卻的設(shè)備，冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱，達(dá)到冷卻的作用。冷卻水溫可根據(jù)要求自動(dòng)調(diào)節(jié)，長期使用可節(jié)約用水。 冷水機(jī)能控制真空鍍膜機(jī)的溫度，以保證鍍件的高質(zhì)量。如果不配冷水機(jī)就不能使真空鍍膜機(jī)達(dá)到高精度、高效率控制溫度的目的，因?yàn)樽匀凰退岫疾豢杀苊獾厥艿阶匀粴鉁氐挠绊懀掖朔绞娇刂剖菢O不穩(wěn)定的。 冷水機(jī)具有完全獨(dú)立的制冷系統(tǒng)，絕不會(huì)受氣溫及環(huán)境的影響，水溫在5℃～30℃范圍內(nèi)調(diào)節(jié)控制，因而可以達(dá)到高精度、高效率控制溫度的目的，冷水機(jī)設(shè)有獨(dú)立的水循環(huán)系統(tǒng)。